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Oberstufenlabor Halbleitertechnologie (Wintersemester 2017/2018)

Prof. Osten, mit wiss. Mitarbeitern

Das Labor wird im Wintersemester 2017/18 angeboten. Die Teilnehmer werden in dem Labor alle zur Herstellung einer integrierten Schaltung notwendigen Prozessschritte kennen lernen und zum größten Teil selbst ausführen. Die von den Teilnehmern hergestellten Halbleiterbauelemente werden elektrisch charakterisiert. Kenntnisse aus den Vorlesungen Halbleitertechnologie und Grundlagen der Halbleiterbauelemente sind Voraussetzung für die Teilnahme an dem Labor. Die Kenntnisse sind zu Beginn des Labors in einem schriftlichen Test nachzuweisen.

Inhalt

  • Nasschemisches Reinigung
  • Thermische Oxidation
  • Fotolithografie
  • Ionenimplantation
  • Rapid thermal annealing (RTA)
  • Nasschemische Strukturierung
  • Metallisierung
  • elektrische Charakterisierung

Ablaufplanung

Das Labor wird als Blockveranstaltung im Januar 2018 durchgeführt.

Interessenten für das Labor tragen sich bitte bis zum 03.11.2017, in die im Sekretariat des Instituts für Materialien und Bauelemente der Elektronik (Schneiderberg 32, 1. Etage) ausliegende Liste ein. Die Anzahl der Laborplätze ist aufgrund des hohen Betreuungsaufwands und der vorhandenen Reinraumarbeitsplätze beschränkt.

Teilnehmer aus Diplom- oder Bachelorstudiengängen müssen mindestens 100 CP bereits erbracht haben. Falls sich mehr Interessenten anmelden als Plätze zur Verfügung stehen, haben Studierende, für die das Labor eine Pflicht oder Wahlpflichtveranstaltung ist Vorrang. Die Reihenfolge des Eintragens in die ausliegende Liste ist unerheblich.

Eine Vorbesprechung findet im Seminarraum des LNQEs (Schneiderberg 39) statt. Der Termin für die Vorbesprechung ist der 07.11.2017 um 15:15 Uhr im Seminarraum des LNQEs. Die Teilnahme und das Bestehen am Vortestat (Termin wird während der Vorbesprechung bekannt gegeben) ist Voraussetzung für die Teilnahme am Labor.

Das Laborskript und die Laborordnung des LNQEs finden Sie im Passwort-geschützten Download-Bereich.

Betreuer